近日,BusinessKorea报道,由于2nm制程量产良率问题,三星电子决定暂停其在 Texas(泰勒)工厂的人员部署,并撤回部分工作人员回国。这一举措不仅凸显了三星在先进制程工艺上所面临的挑战,也引发了外界对其竞争力的担忧。
据悉,三星电子在2nm制程上的良率目前低于50%,尤其是在3nm以下工艺方面,与竞争对手台积电相比存在明显差距。据数据显示,台积电的先进工艺良率约为60-70%,这使得台积电在市场份额上领先于三星,差距高达50.8个百分点(台积电Q2占比62.3%,而三星仅为11.5%)。
业内人士透露,三星电子在GAA(Gate-All-Around)工艺上的良率仅为10-20%,这远低于订单和大规模生产所需的良率标准。正是这一良率问题,迫使三星重新考虑其战略,并决定从泰勒工厂撤回工作人员。
与此同时,三星电子已签署了一份初步协议,希望通过美国CHIPS法案获得最高9万亿韩元(约合478.26亿元人民币)的补贴。然而,这一补贴的获得有一个前提,那就是工厂必须满足美国的相关条件。在当前良率问题的背景下,三星能否顺利拿到这一补贴,成为了外界关注的焦点。
业内专家认为,三星电子在晶圆代工领域的竞争力下滑,其内部官僚主义、决策制定流程缓慢以及低薪酬是主要原因。一位半导体教授指出,与20-30年前相比,三星在投资时机上的延后,也暴露出管理层当前现实缺乏充分认识。要想重振竞争力,三星电子需要对管理系统进行根本性的改革。
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